(Invited) P-Type and N-Type Channeling Ion Implantation of SiC and Implications for Device Design and Fabrication

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Veröffentlicht in:Joint Symposium: State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS) and GaN and SiC Power Technologies (2020 : Online) Joint Symposium: State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors 63 (SOTAPOCS 63) and GaN and SiC Power Technologies 10
1. Verfasser: Das, H. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Sunkari, S. (VerfasserIn), Justice, J. (VerfasserIn), Malousek, R. (VerfasserIn), Chochol, J. (VerfasserIn), Wada, R. (VerfasserIn), Kuroi, T. (VerfasserIn)
Pages:63
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2020
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