Novel reactor design and method for atmospheric pressure chemical vapor deposition of micro and nano SiO2-x films in photovoltaic applications

Dissertation, Technische Universität Ilmenau, 2021

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Issa, Esmail (VerfasserIn)
Körperschaften:	Universitätsverlag Ilmenau (Verlag), Technische Universität Ilmenau (Grad-verleihende Institution)
Weitere Verfasser:	Rädlein, Edda (AkademischeR BetreuerIn), Hannappel, Thomas (AkademischeR BetreuerIn), Ronning, Carsten (AkademischeR BetreuerIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Ilmenau Universitätsverlag Ilmenau 2022
Schriftenreihe:	Werkstofftechnik aktuell Band 26
Schlagworte:	Hochschulschrift > Siliciumdioxid > APCVD-Verfahren > Chemischer Reaktor > Dünnschichtsolarzelle > Herstellung > Galvanische Abscheidung > Fotovoltaik > Heterosolarzelle > Dünne Schicht > Siliciumverbindungen
Online Zugang:	Abstract Inhaltsverzeichnis
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