Understanding and Control of Stress at Si-SiO2 Interface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Rīgas Tehniskā Universitāte (60. : 2019 : Riga) Materials science and applied chemistry III
1. Verfasser:	Kropman, D. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Seeman, V. (VerfasserIn), Medvids, A. (VerfasserIn), Onufrijevs, P. (VerfasserIn), Vitusevich, S. (VerfasserIn), Mikli, V. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2020
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