Low-Temperature Processed Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor with In- Ga-Zn-O Channel Deposited by Ar+O2+H2 Sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science (2020 : Online) (15.) Thin Film Transistors 15 (TFT 15)
1. Verfasser: Magari, Y. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Furuta, M. (VerfasserIn)
Pages:15
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2020
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