Advances in High-k Gate Dielectric and Metal Gate Technology Using Atomic Layer CVD

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (62 : 2002 : Tokio) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-62.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Waard, H. de (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Werkhoven, C. (VerfasserIn), Maes, J. W. (VerfasserIn), Rittersma, Z. M. (VerfasserIn), Massoubre, D. (VerfasserIn)
Pages:	62
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	2002
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