Chemical Dry Cleaning Technology for Reliable 65nm CMOS Contact to NiSix

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (68 : 2005 : Kyōto) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-68.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Honda, M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Tsutsumi, K. (VerfasserIn), Harakawa, H. (VerfasserIn), Nomachi, A. (VerfasserIn), Murakami, K. (VerfasserIn), Ooya, K. (VerfasserIn), Kudou, T. (VerfasserIn), Nagamatsu, T. (VerfasserIn), Ezawa, H. (VerfasserIn)
Pages:	68
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2005
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