A New Barrier Metal Structure with ALD-TaN for Highly Reliable Cu Dual Damascene Interconnects

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (67 : 2004 : Tokio) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-67.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser: Mori, K. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Maekewa, K. (VerfasserIn), Kbayashi, K. (VerfasserIn)
Pages:67
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2004
Schlagworte:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!