Characterization of Wetting of Deep Silica Nanoholes by Aqueous Solutions Using ATR-FTIR

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (15. : 2021 : Mecheln) Ultra clean processing of semiconductor surfaces XV
1. Verfasser:	Vereecke, G. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Darcos, A. (VerfasserIn), Iino, H. (VerfasserIn), Holsteyns, F. (VerfasserIn), Sánchez, E. A. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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