TuKaN - Tunnelkontakte auf N-Typ: für die Metallisierung mit Siebdruck; Teilvorhaben FAP GmbH: Entwicklung einer industrietauglichen CVD-Quelle für hochdotierte wasserstoffarme Silizium-Schichten Abschlussbericht : Laufzeit des Vorhabens: 01.10.2017 bis 31.03.2021

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft:	FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden (Herausgebendes Organ)
Weitere Verfasser:	Stahr, Frank (MitwirkendeR)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Dresden FAP GmbH Dresden 2021
Schlagworte:	Forschungsbericht
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