X-ray metrology in semiconductor manufacturing

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Bowen, David Keith (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Tanner, Brian K. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Boca Raton u.a. CRC/Taylor & Francis 2006
Schlagworte:	Semiconductors > Design and construction > Integrated circuits > Measurement > Semiconductor wafers > Inspection > X-rays > Diffraction > Fluroscopy > Halbleiterbauelement > Herstellung > Röntgenstrahlung > Anwendung
Online Zugang:	Verlagsangaben
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