The physics of SiO 2 and its interfaces : proceedings of the International Topical Conference on the Physics of SiO 2 and its Interfaces held at the IBM Thomas J. Watson Research Center Yorktown Heights, New York, March 22 - 24, 1978

The physics of SiO 2 and its interfaces proceedings of the International Topical Conference on the Physics of SiO 2 and its Interfaces held at the IBM Thomas J. Watson Research Center Yorktown Heights, New York, March 22 - 24, 1978

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaften: Thomas J. Watson Research Center (BerichterstatterIn), International Topical Conference on the Physics of SiO 2 and Its Interfaces (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Pantelides, Sokrates (HerausgeberIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: New York u.a. Pergamon Press 1978
Schlagworte:
Konferenzschrift > Siliciumdioxid > Oberfläche > Physikalische Eigenschaft
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