Weiterentwicklung von SiC/W-Masken und Anwendung der Röntgenlithografie zur Herstellung von komplexen VlSI-Schaltungen 2. Zwischenbericht ; Berichtszeitraum 1.1.89 - 30.6.89

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser:	Sautter, D. (BerichterstatterIn), Bruns, A. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Hamburg Philips GmbH, Forschungslaboratorium 1989
Schriftenreihe:	FB / Forschungsabteilung Angewandte Materialforschung, Philips GmbH, Forschungslaboratorium Hamburg 697
Schlagworte:	Forschungsbericht
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