Papers from the Second International Workshop on the Measurement and Characterization of Ultra-Shallow Doping Profiles in Semiconductors 23 - 25 March 1993, MCNC, Center for Microelectronics, Research Triangle Park, North Carolina

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaften:	International Workshop on the Measurement and Characterization of Ultra Shallow Doping Profiles in Semiconductors (VerfasserIn), Microelectronics Center of North Carolina (BerichterstatterIn), National Institute of Standards and Technology (BerichterstatterIn), American Vacuum Society (BerichterstatterIn), USA Office of Naval Research (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Subrahmanyan, Ravi (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	New York American Inst. of Physics 1994
Schriftenreihe:	Journal of vacuum science and technology / B 12.1994,1
Schlagworte:	Konferenzschrift
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Titel	Jahr	Verfasser
Papers from the Second High Density Plasma Workshop : 3 - 4 August 1993, San Francisco, California	1994