Plasma processing [the fourth International Conference on Reactive Plasmas (ICPR-4), held at Aston Wailea Resort, Maui, Hawaii on october 19 - 23 1998; the 51st Annual Gaseous Electronics Conference (GEC-51)]

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	ICRP (BerichterstatterIn), Gaseous Electronics Conference (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Kono, Akihiro (HerausgeberIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Tokyo Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics 1999
Schriftenreihe:	Japanese journal of applied physics Regular papers, brief communications & review papers 38,7B : Special issue
Schlagworte:	Konferenzschrift > Plasmastrahlbearbeitung > Plasmaphysik
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!