Untersuchungen an oxidischen und oxifluoridischen Materialmischungen zur Optimierung von ionenstrahlgesputterten Dünnschichtsystemen für Hochleistungslaserkompenten = Analysis of oxide and oxifluoride mixture materials to optimize ion beam sputtered multilayer coatings for high power laser optics

Dissertation, Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, 2018

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Mende, Mathias (VerfasserIn)
Körperschaft: Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover (Grad-verleihende Institution)
Weitere Verfasser: Ristau, Detlev (AkademischeR BetreuerIn), Morgner, Uwe (AkademischeR BetreuerIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Hannover 2018
Schlagworte:
Hochschulschrift > Hochleistungslaser > Optische Schicht > Dielektrikum > Oxide > Fluoride > Beschichtung > Sputtern > Ultraviolett-Bestrahlung > Strahlenschaden > Röntgenspektroskopie
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
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Beschreibung
Zusammenfassung:Dissertation, Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, 2018
Dünnschichttechnologie, Ionenstrahlsputtern, Materialmischungen, UV-Beschichtungen, laserinduzierte Zerstörschwelle. - Thin film technology, ion beam sputtering (IBS), mixture materials, UV-coatings, laser-induced damage threshold (LIDT)
Beschreibung:II, 144 Seiten, Seite III-LVI
Illustrationen, Diagramme