A low curent density sputtering ion source and its application to the isotopic and quantitative analysis of nanogram samples

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	McHugh, James A. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Schenectady, NY Knolls Atomic Power Laboratory, General Electric Company 1967
Schriftenreihe:	KAPL 3339
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