Advanced plasma science and its applications for nitride and nanomaterials special issue

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaften: ISPlasma (VerfasserIn), IC-PLANT (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Naritsuka, Shigeya (HerausgeberIn), Miyazaki, Seiichi (HerausgeberIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Tokyo IOP Publishing 2018
Schriftenreihe:Japanese journal of applied physics volume 57, number 1S (January 2018)
Schlagworte:
Konferenzschrift
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Beschreibung
Beschreibung:"This special issue consists of peer-reviewed papers based on presentations at the 9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2017) held at Chubu University, Aichi, Japan during March 1-5, 2017" - Vorwort
Literaturangaben
Beschreibung:ca. 160 Seiten (verschiedene Seitenzählung)
Illustrationen, Diagramme