Der Stickstoffpartialdruck - eine Größe zur Prozeßkontrolle bei der Herstellung von TiN-Schichten mit Hilfe der PVD-Sputtertechnik

Zugl.: Bremen, Univ., Diss.

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Juling, Herbert (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Düsseldorf VDI-Verl. 1992
Ausgabe:	Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:	Fortschrittberichte VDI Reihe 5, Grund- und Werkstoffe, Kunststoffe 270
Schlagworte:	Hochschulschrift > Titannitrid > Hartstoff > Magnetronsputtern > Stickstoff > Partialdruck > Prozessregelung
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