Selective low pressure chemical vapor deposition of TaSi2 on silicon

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Wendling, Thomas P. H. F. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	München 1991
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Beschreibung
Beschreibung:	München, TU, Fak. f. Physik, Diss. 1991
Beschreibung:	158 S. 30 cm