Vacuum deposition by pulsed laser radiation plasma composition, deposition techniques and thin film properties

Delft, Techn. Univ., Diss. : 1989

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Shi, Liang (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Delft 1989
Schlagworte:	Hochschulschrift
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