Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Kleijn, Chris Rudolf (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Werner, Christoph (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Basel u.a. Birkhäuser 1993
Schriftenreihe:	Progress in numerical simulation for microelectronics 2
Schlagworte:	Wolfram > CVD-Verfahren > Mathematisches Modell
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