Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching

Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Zhang, Yan (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2008
Schlagworte:	Kupfer > Oberflächenbehandlung > Lithografie > Rasterkraftmikroskop > Abscheidung > Silicium > Hochschulschrift
Online Zugang:	Volltext https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 http://d-nb.info/991329406/34
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