˜Dieœ Gate-Isolation des CaSe-Dünnfilmtransistors mit plasma-oxydiertem Al O

1977. 96 S. 8<br>Berlin, Techn. Univ., Fachbereich 19 - Elektrotechnik, Diss.

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1. Verfasser: Fleischer, Ulrich (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:und
Veröffentlicht: 1977
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