Mehrlagen-Resistsysteme für optische- und Elektronenstrahl-Lithographie von Heinz Beneking ... = ˜Report-Nr.œ BMFT-FB-T 86-045 = Multilevel resist systems for optical and electron beam lithography

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Beneking, Heinz (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:und
Veröffentlicht: Eggenstein-Leopoldshafen Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1986
Schriftenreihe:Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 86,001-86,999 86,45
Schlagworte:
Elektronenstrahllithografie > Ionenstrahlätzen > Dreilagensystem > Mehrlagen-Resistsystem
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