Reduzierung von Drifteffekten in SiO2/InP-MIS-Kondensatoren

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Kulisch, Wilhelm (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:und
Veröffentlicht: 1988
Schlagworte:
Siliciumdioxid > Drift > Oberfläche > MIS > PECVD-Verfahren > Kondensator > Indiumphosphid > Hochschulschrift
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Beschreibung:Kassel, Gesamthochschule, Diss.
Beschreibung:171 S.
Ill., graph. Darst.