Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Hofzumahaus, Andreas (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1984
Schlagworte:	Hochschulschrift
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