High Performance SiOxHy : H Anti-reflective-layer for Sub-0.3 4m Device Pattern Fabrication

von Nakano, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (45. : 1993 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 45kai Shinpojiumu (1993)