A Low-Temperature Deposition of RF-sputtered (Ba, Sr) TiO3 Thin Films for ULSI DRAM Applications

von Takehiro, S.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (51 : 1996 : Tokio) 51. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū (1996)