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1

Development of Resist Materials for ArF Lithography

von Yano, E.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (53 : 1997 : Tokio) 53. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū (1997)

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2

Single Layer Resist with Adamantylmethacrylates for 193nm Lithography

von Takechi, S.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (47 : 1994 : Tokio) 47. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū (1994)

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