Stabilizing Dielectric Constants of Fluorine Doped SiO2 (SiOF) Fims by N2O Plasma Annealing

von Takeishi, S.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (48 : 1995 : Tokio) 48. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū (1995)