Verfasser Suchresultate :: Subito Katalog

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Proposal of New Wet Chemical Cleaning beyond RCA

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Proceeding (1995)

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2

High Efficiency and Highly Productive Semiconductor Manufacturing with Low Capital Inverstiment

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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3

Scientific wet process technology for innovative LSI/FPD manufacturing

Veröffentlicht 2006

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4

Ultrapure water

Veröffentlicht 1993

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Introduction

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Handōtai purosesu o kōseinōka suru hyōka bunseki gijutsu III (1993)

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6

Importance of Advanced Evaluation System in Semiconductor Technology

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (13 : 1991 : Tokio) Kōseinō handōtai purosesu yō hyōka, bunseki gijutsu (1991)

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7

Introduction

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Advanced wet chemical processing III (1992)

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8

Ultraclean technology handbook

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9

Bridging Electronics to Electrical Chemistry at Silicon Surface

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Proceeding (1995)

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10

Dependence of Device Performance on Surface Microroughness of Substrate

von OHMI, Tadahiro
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (13 : 1991 : Tokio) Kōseinō handōtai purosesu yō hyōka, bunseki gijutsu (1991)

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Low-Temperature Si Epitaxy using Low-Energy lon Bombardment

von KUMAMI, Hajime
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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The Development of the Microwave-Excited High-Density Plasma Enhanced CVD Equipment

von MORII, Akio
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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The Control of Etching Rate for Various SiO2 Films

von KEZUKA, TaKkehiko
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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Gradational Lead Screw Vacuum Pump Development

von ANDO, Kiyoshi
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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15

Advanced Single Si Wafer Cleaning System

von NITTA, Takahisa
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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Chemistry of Ultra Pure Water Excited by Megasonic

von TODA, Masayuki
Veröffentlicht in Proceeding (1995)

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The Cleaning by Fluorine Etchant and Metallic Vessel for HF Cleaning with Megasonic

von IZUMI, Hirito
Veröffentlicht in Proceeding (1995)

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Ultra-Thin Gate Dielectric Film Formation Technology by using Microwave-Exceitation High-Density Plasma

von SEKINE, Katsuyuki
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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Precise Control of Gas Concentration Ratio in Process Chamber

von NAKAMURA, Osamu
Veröffentlicht in Chō-LSI-Urutora-Kurīn-Tekunorojī-Shinpojiumu (33 : 1999 : Tokio) Cho-LSI-Urutora-Kurin-Tekunoroji-Shinpojiumu (1999)

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Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing : symposium held April 13 - 15, 1993, San Francisco, California, U.S.A. ; [compilation of papers presented...

Veröffentlicht 1993

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