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Characteristics of Photo-CVD TaOx/SiNx Double-Layer Gate TFT and the Effect of. Residual Stress

von Nagayoshi, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (37. : 1989 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 37kai Shinpojiumu (1989)

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2

Residual Stress of a-SiNx:H Films Prepared by After-Glow Plasma CVD Technique

von Nagayoshi, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (41. : 1991 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 41kai Shinpojiumu (1991)

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