Carbon Doped Silicon Oxide Films for Sub-0.25 μm Technology Interconneet Isolation

von Nag, S.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (57 : 1999 : Tokio) 57.-Handōtai-Shuseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū (1999)

Two Approaches to the Development of Low k Systems; Parylene AF-4, and Fluorinated Amorphous Carbon

von Harrus, A.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (52 : 1997 : Osaka) 52. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū (1997)