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1

DEGRADATION OF n-MOS TRANSISTOR BY HOT CARRIER INJECTION

von Mitsuhashi, J.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (28. : 1985 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 28kai Shinpojiumu (1985)

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2

ELECTRON BEAM DIRECT EXPOSURE TECHNOLOGY (II) EFFECT OF ELECTRON BEAM IRRADIATION ON MOS STRUCTURE

von Mitsuhashi, J.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (22. : 1982 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 22kai Shinpojiumu kōen ronbunshū (1982)

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3

ELECTRON BEAM DIRECT EXPOSURE TECHNOLOGY (3) FABRICATION OF SUBMICRON MOS DEVICES

von Mitsuhashi, J.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (23. : 1982 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 23kai Shinpojiumu (1982)

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4

Reliability Evaluation of Thin Gate Oxide using a Very Low-current Technique

von Katsumata, M.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (45. : 1993 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 45kai Shinpojiumu (1993)

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5

A SUBMICRON MULTILEVEL METALLIZATION PROCESS WITH CVD-W

von Takata, Y.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (35. : 1988 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 35kai Shinpojiumu (1988)

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