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    Thin film materials, processes, and reliability : proceedings of the international symposia ; [contains the papers from two sub-symposia on thin film materials, processes, and reliability: part I - patterning of low- and high-k films and damage control in ULSI device fabrication and part II - copper interconnect & low-k interlevel dielectric films in ULSI circuits, held as part of the 2001 joint internation meeting - the 200th meeting of the Electrochemical Society and the 52nd annual meeting of the International Society of Electrochemistry, in San Francisco, CA, September 2 - 7, 2001]
    Veröffentlicht 2001
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  2. 2
    Veröffentlicht 1985
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    Veröffentlicht 1982
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  4. 4
    Plasma and CVD processing : [at the 209th ECS meeting, May 7 - 12, 2006. Denver, Colorado, USA]
    Veröffentlicht 2006
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    Veröffentlicht 1988
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  6. 6
    Veröffentlicht 1983
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  7. 7
    Plasma processing XIII : proceedings of the international symposium : [papers presented at the Thirteenth International Symposium on Plasma Processing, held as part of the 197th Meeting of the Electrochemical Society in Toronto, Canada, May 14 - 19, 2000]
    Veröffentlicht 2000
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  8. 8
    Veröffentlicht 1990
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    Veröffentlicht 1987
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  10. 10
    Proceedings of the Eleventh International Symposium on Plasma Processing : [held in Los Angeles, CA, May 5-10, 1996, held as part of the 189th Meeting of the Electrochemical Society]
    Veröffentlicht 1996
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  11. 11
    Proceedings of the Twelfth International Symposium on Plasma Processing : [held as part of the 193rd Meeting of the Electrochemical Society in San Diego, CA, May 3 - 8, 1998]
    Veröffentlicht 1998
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  12. 12
    Copper interconnects, new contact and barrier metallurgies/structures, and low-k interlevel dielectrics III : [International Symposium on Copper Interconnections, Low-k Interlevel Dielectrics, and New Contact and Barrier Metallurgies/Structures III held as part of the 208th meeting of the Electrochemical Society, ECS meeting, October 16 - 21, 2005, Los Angeles, California, USA]
    Veröffentlicht 2006
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  13. 13
    Plasma processing XIV : proceedings of the international symposium : [papers presented at the Fourteenth International Symposium on Plasma Processing, held as part of the 201th Meeting of the Electrochemical Society in Philadelphia, PA, May 12 - 17, 2002]
    Veröffentlicht 2002
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  14. 14
    Interconnect and contact metallization for ULSI : proceedings of the International Symposium
    Veröffentlicht 2000
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  15. 15
    Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium
    Veröffentlicht 2000
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  16. 16
    Proceedings of the Tenth Symposium on Plasma Processing : [held at San Francisco, CA, May 22 - 27, 1994]
    Veröffentlicht 1994
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  17. 17
    Proceedings of the Ninth Symposium on Plasma Processing : [held in St. Louis, MO, May 17 - 22, 1992]
    Veröffentlicht 1992
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  18. 18
    Copper interconnects, new contact metallurgies/structures, and low-k interlevel dielectrics : proceedings of the symposium ; [contains papers presented at the Symposium on Copper Interconnects, New Contact Metallurgies/Structures, and Low-k Interlevel Dielectrics, held as part of the 198th meeting of the Electrochemical Society, in Phoenix, AZ, October 22 - 27, 2000]
    Veröffentlicht 2001
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  19. 19
    Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications: Thin Film Processes : [as part of the joint international meeting of the Electrochemical Society and the International Society for Electrochemistry, in Paris, France, Aug 31 - Sep 5, 1997]
    Veröffentlicht 1998
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  20. 20
    Processing materials of 3D interconnects, damascene and electronics packaging 7
    Veröffentlicht 2015
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