Formation of Ideal Metal/Silicon Contacts by Native-Oxid-Free Processing

von Kuwabara, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (39. : 1990 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 39kai Shinpojiumu (1989)

Ultraclean, Low Energy Bias Sputtering for High Quality Pure Aluminum Metallization

von Kuwabara, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (38. : 1990 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 38kai Shinpojiumu (1990)

Depth Profile Analysis of Nickel Silicide Films using Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry(TOF-SIMS)

von Watanabe, H.
Veröffentlicht in Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-71.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū (2007)