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SELECTIVE CVD – TUNGSTEN USING SiH4 – REDUCTION AND ITS APPLICATION TO VLSI

von Tsutsumi, T.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (33. : 1987 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 33kai Shinpojiumu (1987)

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2

A SUBMICRON MULTILEVEL METALLIZATION PROCESS WITH CVD-W

von Takata, Y.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (35. : 1988 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 35kai Shinpojiumu (1988)

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