SIMULATION FOR ETCHING PATTERN PROFILES

von Matsui, T.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (27. : 1984 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 27kai Shinpojiumu (1984)

ETCHING CHARACTERISTIC OF SUBMICRON TRENCH

von Kase, M.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (31. : 1986 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 31kai Shinpojiumu (1986)

Characterisitics of Polymerization in ECR Microwave Etching

von Mitsuhashi, T.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (39. : 1990 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 39kai Shinpojiumu (1989)

DAMAGE CAUSED BY PLASMA ETCHING

von Mitsuhashi, T.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (29. : 1985 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 29kai Shinpojiumu (1985)

Loading Effect in SiO2 Etching

von Ozawa, N.
Veröffentlicht in Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (37. : 1989 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 37kai Shinpojiumu (1989)