CMOSFETs using HfO2 High-k Gate Dielectrics

von Aoyama, T.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (63 : 2002 : Tokio) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-63.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū (2002)

High Performance & Highly Reliable Deep Submicron CMOS-FETs Using Nitrided-Oxide

von Irino, K.
Veröffentlicht in Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (56 : 1999 : Osaka) 56.-Handōtai-Shuseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū (1999)